Atik Tès | Kontni Tès la | Egzijans teknik | |
JewometrikDimansyonman | Longè, lajè gwosè | ≤2000mm, devyasyon admisib la plis oswa mwens 1.0mm | |
≥2000mm, devyasyon admisib la plis oubyen mwens 1.5mm | |||
Dyagonal la | ≤2000mm, devyasyon admisib la plis oswa mwens 3.0mm | ||
>2000mm, devyasyon admisib la plis oubyen mwens 3.0mm | |||
platite | Diferans admisib ≤1.5mm/m | ||
Epesè mwayèn fim sèk la | Doub kouch ≥30μm, Trip kouch ≥40μm | ||
Kouch fliyokarbon | Aberasyon kromatik | Enspeksyon vizyèl pou pa gen okenn diferans koulè evidan oswa monokromatik pentire lè l sèvi avèk yon tès mèt diferans koulè òdinatè AES2NBS | |
briyans | Erè valè limit la ≤±5 | ||
Dite kreyon | ≥±1H | ||
Adezivite sèk | Metòd divizyon, 100/100, jiska nivo 0 | ||
Rezistans enpak (enpak frontal) | 50kg.cm (490N.cm), Pa gen krak e pa gen retire penti | ||
Chimikrezistans | Asid kloridrikrezistans | Degoute pandan 15 minit, san bul lè | |
Asid nitrik rezistans | Chanjman koulè ΔE≤5NBS | ||
Mòtye rezistan | 24 èdtan san okenn chanjman | ||
Detèjan rezistan | 72 èdtan san bul, pa gen pèt cheve | ||
Korozyonrezistans | Rezistans imidite | 4000 èdtan, jiska nivo GB1740 Ⅱ pi wo a | |
Espre sèlrezistans | 4000 èdtan, jiska nivo GB1740 Ⅱ pi wo a | ||
Tanperatirezistans | Dekolorasyon | Apre 10 ane, AE≤5NBS | |
Efloresans | Apre 10 ane, GB1766 Nivo Youn | ||
Retansyon briyans | Apre 10 ane, pousantaj retansyon ≥50% | ||
Pèt epesè fim | Apre 10 ane, pèt epesè fim ≤10% |
1. Pwa lejè, bon rijidite, gwo fòs.
2. Ki pa ka pran dife, ekselan rezistans dife.
3. Bon rezistans move tan, rezistans asid, rezistans alkali pou eksteryè.
4. Trete nan plan, sifas koube ak sifas esferik, fòm gwo kay won ak lòt fòm konplèks.
5. Fasil pou netwaye epi kenbe.
6. Opsyon koulè laj, bon efè dekoratif.
7. Resiklab, pa gen polisyon.
Objektif nou se founi machandiz ki estab e ki gen bon kalite epi amelyore sèvis ou. Nou sensèman envite zanmi atravè lemond pou vizite konpayi nou an epi nou espere etabli plis koperasyon.